標題：集成電路的檢驗標準必須數(shù)量化檢測顯微鏡
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2018-10-1 0:06:17
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正文:
集成電路的檢驗標準必須數(shù)量化檢測顯微鏡
在檢驗過程中發(fā)現(xiàn)的缺陷往往是可以修補的。自動檢驗設備可以通過
計算機和打印機指出缺陷的位置并描繪出缺陷區(qū)域。工作掩膜缺陷盼討論
中將闡述修補缺陷的幾種方法。由予掩膜上的大部分缺陷是鉻(或其他掩膜
材料)上的針孔和空位，或者是玻璃板上鉻的斑點，因此修補工作就變得非
常簡單，往往只需在針孔或空位上加上不透明材料，或者在玻璃板上刮去
鉻的斑點就可以了。
超大規(guī)模集成電路的檢驗標準必須數(shù)量化。臨界尺寸的精度控制范圍在0
．1～O．3”m之間，這取決于線寬尺寸。對2肛m線寬，其誤差為±0．3斗i
n。100mm圓片．h的圖形對準誤差應在0．．1～0．5nm之間。每一層(層厚
約1．o“m)的致i令缺陷比例通常不能超過l～5．oA，而許多技術(shù)標準則要
求完全沒有致命缺陷。掩膜的質(zhì)量是通過檢驗來保證的。作為檢驗的技術(shù)
標準，應該能明確區(qū)分合格掩膜和廢品掩膜。例如，某一個關(guān)于缺陷的技
術(shù)標準規(guī)定，每平方英寸(1英寸=25．4mm)不箭超過兩個缺陷，每個缺陷的
直徑不超過1．5斗nl。假如一塊掩膜版在每平方英寸上有三個缺陷，并且
直徑都大予1．融m，那么這塊掩膜版就是廢品，應該退回修理部門。一般
情況下，一個缺陷往往是在顯微鏡明場中可見的一個不透明的斑點，或是
暗場中的一個亮斑。、圖7．2表示最‘普遍的一些缺陷類型。
對一套給定的掩膜建立全面檢驗標準時，重要的是需要弄清楚這些缺
陷可能的來源
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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