標(biāo)題：刻蝕的圖形質(zhì)量表面微觀檢測圖像顯微鏡
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2018-10-1 23:18:45
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正文:
抗蝕劑表面交鏈也能提高抗蝕性能。-例如在等離子體的作用下，也
能使抗蝕劑表面交鏈。一般來說，經(jīng)過特殊處理的抗蝕劑不再溶予自身，
而抗蝕性大大提高。
用正性抗蝕劑要特別注意氮氣的影響，因為正性抗蝕劑暴露在氮氣下
會使抗蝕劑的曝光量增加至原來的8倍。這一反應(yīng)稱為光化化合反應(yīng)(PAC)
。大多數(shù)經(jīng)過處理后的抗蝕劑會變得堅韌，要用灰化技術(shù)來去膠，最常用
的灰化去膠技術(shù)是甩氧等離子體去膠技術(shù)
在掩膜版翩造工藝中，后烘工藝(也稱堅膜)十分螢要，其主要目的是
提高抗蝕劑的抗蝕性能，改善抗蝕劑與待刻蝕材料的粘附性(防止千法和濕
法刻蝕時的鉆蝕)。在后烘工藝中，不同抗蝕荊的最佳后烘溫度不同，原因
是在高溫下各種抗蝕劑的反應(yīng)是不相同的。這種熱流動或者物理變化會影
響濕法刻蝕的圖形質(zhì)量。一般情況下，抗蝕劑的熱流動主要發(fā)生在抗蝕劑
豹表面，·對抗蝕劑的線寬影響不大，而且大部分用作掩膜的材料都非常
薄，刻蝕的時間短，因此圖像尺寸的變化不大。后烘的溫度不宜太高，只
要能提高抗蝕效果和不發(fā)生鉆蝕即可。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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