標(biāo)題：光學(xué)技術(shù)引入表面形貌測(cè)量,非接觸測(cè)量顯微鏡
信息分類(lèi):站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2016-12-7 1:41:06
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正文:
光學(xué)式表面測(cè)量技術(shù)
光學(xué)技術(shù)被引入表面形貌測(cè)量，實(shí)現(xiàn)了非接觸測(cè)量。光學(xué)表面形貌
測(cè)量法可分為光波干涉法、光散射計(jì)量法和聚焦探測(cè)法。
光波干涉法利用標(biāo)準(zhǔn)參考面和被測(cè)表面反射的光束產(chǎn)生干涉，
由顯微鏡將被測(cè)面的微觀輪廓起伏轉(zhuǎn)換為放大了的平面于涉條紋，
然后通過(guò)測(cè)量干涉條紋的相對(duì)變形來(lái)間接完成表面輪廓的測(cè)量。干
涉法主要有相移干涉法、差分干涉法和白光干涉法3種。利用干涉
接收的表面測(cè)量?jī)x器具有測(cè)量信息直觀和測(cè)量精度高等優(yōu)點(diǎn)。近年
來(lái)相移技術(shù)在干涉形貌測(cè)量中的成功應(yīng)用，更使干涉技術(shù)測(cè)量表面
形貌的精度和速度有了大幅度提高。但是，由于受到波長(zhǎng)周期性的
限制，干涉條紋的強(qiáng)弱會(huì)隨著光程差之間的增加而周期性地變化．
它在測(cè)量臺(tái)階高度超過(guò)所用光源波長(zhǎng)的四分之一或較粗糙的表面時(shí)
將顯得無(wú)能為力。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
特別聲明：本文出自北京上光儀器有限公司-未經(jīng)允許請(qǐng)勿轉(zhuǎn)載，本文地址：http://www.bjsgyq.com/news/9201.html
北京地區(qū)金相顯微鏡專(zhuān)業(yè)的供應(yīng)商
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