標題：工業(yè)碳化硅樣品中的雜質的光譜分析圖形學顯微鏡
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2016-1-3 17:22:54
將本頁加入收藏
下一篇：冷軋機組輕質礦物油烯礦物研究圖像顯微鏡廠商
上一篇：測量粒度分布和比表面顆粒的大小鎳粉篩分析圖像顯微鏡
點擊查看產(chǎn)品參數(shù)和報價--丨--
---
---
---
正文:
工業(yè)碳化硅樣品中的雜質的光譜分析圖形學顯微鏡
工業(yè)碳化硅的熱力水災、X 射線、紅外線光譜及化學研究從熱力學
考慮，SiC 與結合劑之間可以在各種氣氛下發(fā)生反應，由此表明，有利
于優(yōu)先析出，實驗室試驗是以現(xiàn)游離是引起黑心的原因，是與此相符合
的，并且在工業(yè)產(chǎn)品內(nèi)也還可能有游離存在。
在似訂各種SiC 變體的X 射線定量分析方法時，發(fā)現(xiàn)了SiC 的結構
概念都不是足以全面地解釋所有的X 射線圖譜，應用這種方法求得了：
為純粹的六方SiC 中含有達到30% 的立方SiC ，否則假設的強度比率就
要加以改正了，各種SiC 試驗的紅外光譜具有特征的差別。
幾個工業(yè)SiC 樣品中的雜質的光譜分析指出，雜質對于顏色同，在
堿與酸中的溶解度以及熒光性無確定的影響，另一方面，新發(fā)展的“溶
鹽試驗”指出SiC 損失數(shù)量隨雜質增加與顏色加深而增大，顆粒極細的
SiC 試樣可以在氧化氣氬中迅速燒掉，還原氣氛引起黑心，而含硫氣氛
使粘土有結合劑的SiC 坯體在不同的溫度、結合劑、氣氛等條件下的燒
成實驗指出，為了避免出現(xiàn)黑心，應當在氧化氣氛下燒成，而燒成溫度
則取決于采用的結合劑。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
特別聲明：本文出自北京上光儀器有限公司-未經(jīng)允許請勿轉載，本文地址：http://www.bjsgyq.com/news/7889.html
北京地區(qū)金相顯微鏡專業(yè)的供應商
北京地區(qū)金相顯微鏡專業(yè)的供應商