標題：光學顯微鏡的放大倍數的上限約為1200倍
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作者:yiyi發(fā)布
時間:2015-7-22 23:29:50
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正文:
光學顯微鏡的放大倍數的上限約為1200倍
電子顯微鏡的一般介紹
光學顯微鏡的放大倍數的上限約為1200倍，在這樣大的放：廷
倍數下，景深非常小．由于這二個限制，再加上大多數微電路中，
擴散和金屬化區(qū)域等等之間的距離可以與光學顯微鏡所用的光2芝
波長相比擬這一事實，就導致了電子顯微鏡的日益普及．這些儀
器是用被幾十千伏的電壓加速了的電子束產生圖象和分辨更小轡，
體的．電子的波長比光波波長短得多(分辨力增加的原因)，它近
似地由下式給出
式中，V是電子的加速電壓．電子顯微鏡有兩種基本的類型：一種
是透射電子顯微鏡(TEM)，它類似于光學顯微鏡；另一種是掃描
電子顯微鏡(SEM)，它可以對樣品表面進行掃描．透射電子顯微鏡
可以有很高的分辨率(3—5埃左右)，而掃描電子顯微鏡的分辨率
只有100N200埃．可是，透射電子顯微鏡只能使用薄得足以使電
子束能明顯穿透過的試樣．所允許的實際厚度與材料及所用的加
速電壓有關，但一般小于2000埃．因此，微電子學中所用的大多數
薄膜，即使它們不是附在較厚的基片上，對用透射電子顯微鏡觀察
而言也是太厚了．為此，塊狀的材料或較厚的薄膜必須減薄，或者，
假如只是對表面結構有興趣，則可以用足夠薄的膜來制作復型．
掃描電子顯微鏡是根據一些不同的現象來構成襯度的，所有
的測量都能在一個表面上進行．對于基本的材料研究，諸如尋找
沉淀物以及研究晶粒結構和位錯，透射電子顯微鏡是最適合的．對
于器件工藝的控制和失效分析，則掃描電子顯微鏡更為有用，它可
用作為光學顯微鏡的擴展，或用來檢測任何其它方法都不易辨別
的缺陷
掃描電子顯微鏡的應用 掃描電子顯微鏡的最大應用在于可
用高的放大倍數和很大的景深來檢測結構和器件．
其中包括一張從硅襯底
上生長出來的某些硅晶須的照片，它是用任何其它辦法都無法得
到的．對氧化物臺階上的集成電路金屬覆蓋物已作了廣泛的研
究
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科