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標(biāo)題：元件的光學(xué)鏡面表面粗糙度測(cè)量工具顯微鏡

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正文:

元件的光學(xué)鏡面表面粗糙度測(cè)量工具顯微鏡

高分子材料應(yīng)用于微機(jī)電(polymer MEMS)研究需突破之方向除技術(shù)新穎性外，亦需考量元件的光學(xué)特性，

如尺寸、鏡面角度、鏡面表面粗糙度、微透鏡透光率、微透鏡直徑及非球面型貌…等，

需能符合所需應(yīng)用之光學(xué)規(guī)格。因此，近幾年開(kāi)發(fā)新穎微制造技術(shù)之研究中，

為達(dá)到元件所需規(guī)格及穩(wěn)定制程，

后學(xué)亦開(kāi)發(fā)相關(guān)設(shè)備，使得所開(kāi)發(fā)之微元件制程能趨于穩(wěn)定，并達(dá)到較佳之測(cè)試結(jié)果。

所開(kāi)發(fā)之設(shè)備有半自動(dòng)化傾斜曝光機(jī)、微熱壓成型機(jī)、微非球面透鏡制程開(kāi)發(fā)平臺(tái)、

微型非球面技術(shù)型貌檢測(cè)(側(cè)拍取像暨型貌分析)及微透鏡光點(diǎn)檢測(cè)系統(tǒng)(~0.4 μm)。

出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科

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