標題：利用顯微鏡觀察氧化鋅薄膜的微結(jié)構(gòu)與表面粗糙度
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2013-3-26 22:45:16
將本頁加入收藏
下一篇：光學壓克力導光元件簡介-光學金相顯微鏡廠商
上一篇：使用金相顯微鏡分析表面型態(tài)顆粒-無電鍍析
點擊查看產(chǎn)品參數(shù)和報價--丨--
---
---
---
正文:
應(yīng)用于紫外光之金屬-半導體-金屬結(jié)構(gòu)之光檢測器，以氧化鋅薄膜作為主動層，
由于氧化鋅是一種寬能隙(3.4eV)半導體，且其常溫下具有較大的激子束縛能(60meV)，
因此成為紫外光光感測器的另一項選擇材料。
（a）氧化鋅薄膜制備與高溫爐退火處理，并分析薄膜材料之特性；
（b）制作紫外光光感測器與量測。
（a）氧化鋅薄膜制備與高溫爐退火處理，并分析薄膜材料之特性
本實驗使用高純度的氧化鋅靶材在室溫下利用射頻濺鍍系統(tǒng)沈積氧化鋅薄膜于P型矽晶圓及石英玻璃上，
針對靶材功率作為制程變數(shù)，并對所制備的氧化鋅薄膜在氮氣中進行不同溫度（300~700℃）的退火處理
，以改善其電性及光學上特性的影響。在薄膜的物性研究方面
，藉由XRD分析，探討氧化鋅薄膜于不同溫度退火處理后之結(jié)晶狀態(tài)與晶粒尺寸，
并利用顯微鏡和AFM顯微鏡觀察薄膜之微結(jié)構(gòu)變化與表面粗糙度；在光學性質(zhì)方面，藉由紫外線可見光光譜儀
，分析在不同退火條件處理所后薄膜之光學穿透率及能隙值；在電學性質(zhì)方面，使用霍爾量測其載子濃度與電子遷移率。
由實驗結(jié)果得知，不同的退火溫度可使薄膜沿c軸成為主要長方向，且薄膜晶粒尺寸隨著退火溫度增加而變大；SEM與AFM分析顯示不同溫度退火處理后薄膜表面微結(jié)構(gòu)有不同的變化；不同溫度退火處理之薄膜于可見光區(qū)皆可逹到90%以上之光穿透度；載子濃度也隨退火溫度有所改變。綜合以上實驗結(jié)果得知，退火處理溫度對氧化鋅薄膜晶體結(jié)構(gòu)與光電特性有很大的影響，適當?shù)闹瞥虦囟葧嵘涮匦浴?/div>
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
（b）制作紫外光光感測器與量測。
將退火處理完成的薄膜，接著遵循標準的曝光、顯影及濺鍍等步驟，將鋁金屬濺鍍在氧化鋅薄膜上來作為接觸電極，
完成氧化鋅金半金光感測器(metal-semiconductor-metal photodetectors, MSM PDs)的元件制作。接著利用I-V量測儀量測其光、暗電流特性。在150W下制備的氧化鋅薄膜經(jīng)過300度退火所做之光感測器，
在10伏特電壓下以可以得到最佳的光暗電流比，逹到4.2個數(shù)量級
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
特別聲明：本文出自北京上光儀器有限公司-未經(jīng)允許請勿轉(zhuǎn)載，本文地址：http://www.bjsgyq.com/news/4090.html
北京地區(qū)金相顯微鏡專業(yè)的供應(yīng)商
北京地區(qū)金相顯微鏡專業(yè)的供應(yīng)商
合作伙伴：