標(biāo)題：熒光分析物料篩選實際中的應(yīng)用-礦樣分析
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2017-9-16 22:13:00
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正文:
熒光分析物料篩選實際中的應(yīng)用-礦樣分析
x射線熒光分析有兩種實際應(yīng)用方法，即x射線集中系統(tǒng)(在料流上
方)及探針系統(tǒng)(在料流中)。集中系統(tǒng)處于物料上方，可將幾處礦
漿礦樣輸送至安裝全套設(shè)備的中心，用一個單一高能激發(fā)源進(jìn)行分
析。探針系統(tǒng)處于料流內(nèi)，利用安裝在料流內(nèi)或者附近的傳感器，
使用方便的低能激發(fā)源(通常是放射性同位素)對料流進(jìn)行在線檢測
。這種方法不需要將代表性礦樣輸送至分析設(shè)備，較為便利。放射
源與探測器裝配在一起，置于一個緊湊的裝置中，稱為探頭。
集中系統(tǒng)通常安裝在大選廠中以連續(xù)監(jiān)控不同的礦漿流，而礦
漿流少一些的小廠可安裝投資較低的探頭系統(tǒng)。
在線x射線分析系統(tǒng)也存在一些問題，主要問題是如何保證射
線檢測的樣品能代表整體料流，而且如何保證反饋射線檢測到的是
該試樣有代表性的部分。激發(fā)射線先通過一個塑料膜窗口，然后穿
透與該窗口接觸的礦漿相互作用。反饋射線從相反的路徑返回探測
器，大部分射線被深度幾個毫米的礦樣吸收，因此直接接觸薄膜窗
口的礦漿層對分析結(jié)果的影響最大。分析的準(zhǔn)確性和可靠性就取決
于這層礦漿是否能代表整個礦漿流。薄膜窗口表面與礦漿的相互作
用會造成此處礦漿發(fā)生離析。可以在x射線集中系統(tǒng)分析儀中使用
高湍流溜槽消除這種現(xiàn)象。將探頭設(shè)置在待測主礦漿流附近，可顯
著降低取樣和輸送的操作成本及設(shè)計的復(fù)雜性，但要注意探頭測量
界面上代表性礦樣須處于湍流狀態(tài)。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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